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期刊

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2021, vol.121, no.138	2021, vol.121, no.212	2021, vol.121, no.235	2021, vol.121, no.365	2021, vol.121, no.366	2021, vol.121, no.46
2021, vol.121, no.71	2021, vol.121, no.8

题名	作者	出版年	年卷期
A study on Ar/N_2-plasma sputtering gas pressure dependence on the LaB_xN_y insulator formation for floating-gate memory applications	Eun-Ki HONG; Shun-ichiro OHMI	2021	2021, vol.121, no.212
A study on Hf-based MONOS nonvolatile memory with HfO_2 and HfON tunneling layer for multi-bit/cell operation	Jooyoung PYO; Akio Ihara; Shun-ichiro OHMI	2021	2021, vol.121, no.212
[招待講演]シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の信頼性に及ぼすフッ素の影響の相違	二谷祐一郎	2021	2021, vol.121, no.212
スパッタリング法を用いて形成した酸化ガリウム薄膜の基礎評価	今泉文伸	2021	2021, vol.121, no.212
界面層を用いた強誘電性ノンドープHfO_2薄膜形成に関する検討	田沼将一; Joong-Won Shin; 大見俊一郎	2021	2021, vol.121, no.212
TMRセンサの高感度化と生体計測への応用	大兼幹彦	2021	2021, vol.121, no.212
電流計測プラットフォームを応用したSiN膜中トラップ放電電流の統計的計測	齊藤宏河; 鈴木勇人; 朴賢雨; 黒田理人; 寺本章伸; 諏訪智之; 須川成利	2021	2021, vol.121, no.212
トランジスタ構造·動作領域·キャリア走行方向によるRTN挙動の統計的解析	秋元暸; 黒田理人; 間脇武蔵; 須川成利	2021	2021, vol.121, no.212