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期刊
ISSN
0913-5685
刊名
電子情報通信学会技術研究報告
参考译名
电子信息通信学会技术研究报告:电子装置
收藏年代
2000~2024
关联期刊
参考译名
收藏年代
電子情報通信学会技術研究報告
电子信息通信学会技术研究报告:电子装置
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2023
2024
2016, vol.116, no.14
2016, vol.116, no.158
2016, vol.116, no.181
2016, vol.116, no.268
2016, vol.116, no.356
2016, vol.116, no.375
2016, vol.116, no.431
2016, vol.116, no.443
2016, vol.116, no.471
2016, vol.116, no.48
题名
作者
出版年
年卷期
Ga_2O_3 上に堆積した SiO_2 膜におけるポストアニールの影響
小西敬太; 上村崇史; ワンマンホイ; 佐々木公平; 倉又朗人; 山腰茂伸; 東脇正高
2016
2016, vol.116, no.158
水蒸気を用いた表面酸化制御 InAlN/GaN MOS-HEMT
尾崎史朗; 牧山剛三; 多木俊裕; 鎌田陽一; 佐藤優; 新井田佳孝; 岡本直哉; 常信和清
2016
2016, vol.116, no.158
p-Cu_2O/AlO_x/n-SiC/n-Si構造の不揮発性 pn メモリダイオードと低電圧動作
土屋充沙; 塚本貴広; 須田良幸
2016
2016, vol.116, no.158
Ge(111)基板上への InSb 薄膜のエピタキシャル成長
三枝孝彰; 森雅之; 前澤宏一
2016
2016, vol.116, no.158
非線形メタマテリアル線路における共鳴相互作用
楢原浩一
2016
2016, vol.116, no.158
高い共鳴トンネル電流の正孔トンネル型 Si_(1-x)Ge_x/Si系 2 重量子井戸共鳴トンネルダイオード
新川綾佳; 脇谷実; 前田裕貴; 塚本貴広; 須田良幸
2016
2016, vol.116, no.158
CaF_2/Si/CaF_2共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性
田辺直之; 島中智史; 須田慶太; 渡辺正裕
2016
2016, vol.116, no.158
円偏波放射が可能なラジアルラインスロットアンテナ集積共鳴トンネルダイオードテラヘルツ発振器
堀川大輔; 鈴木左文; 浅田雅洋
2016
2016, vol.116, no.158
半導体メサ集積レクテナのテラヘルツ帯検波特性の解析
徳岡岳海; 須原理彦
2016
2016, vol.116, no.158
AlTiO/AlGaN/GaN 金属-絶縁体-半導体デバイスにおけるローレンツ型低周波ノイズ
鈴木寿一; S. P. Le; 宇井利昌; T. Q. Nguyen; H. A. Shih
2016
2016, vol.116, no.158
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