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期刊


ISSN0913-5685
刊名電子情報通信学会技術研究報告
参考译名电子信息通信学会技术研究报告：可靠性
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2009, vol.109, no.98

题名作者出版年年卷期
硫化法によるCZTS薄膜太陽電池関拓郎; 五十嵐重雄; 漢人康善; 百瀬成空; 橋本佳男; 伊東謙太郎20092009, vol.109, no.256
低純度シリコンを用いた太陽電池の試作と評価佐野裕紀; 都築暁; 梅田卓司; 成田克; 鈴木貴彦; 廣瀬文彦20092009, vol.109, no.256
有機絶縁膜を用いたシリコンTFTの低温形成橋本将貴; 鈴木貴彦; 成田克; 廣瀬文彦20092009, vol.109, no.256
塩化Niプラズマを用いた低温Niシリサイド形成廣瀬文彦; 鹿又健作; 成田克20092009, vol.109, no.256
絶縁体中に分散させたカーボンナノチューブを用いた冷陰極の試作と評価斉藤裕史; 萩野達也; 松本純樹; 山上朋彦; 林部林平; 上村喜一20092009, vol.109, no.256
単層カーボンナノチューブとポリイミド複合体の微細パターン形成技術と電界電子放出特性石山勝也; 伊東栄次20092009, vol.109, no.256
ディッピング法によって溶液から析出するC_(60)結晶成長－ハイパフォーマンス·ナノスケール電界効果型C_(60)トランジスタの簡易作製を目指して岩田展幸; 栗原浩平; 飯尾靖也; 山本寛20092009, vol.109, no.256
Si上に形成したGe·SiCドットに対する半球状モデルを用いた構造評価黒田朋義; 大谷孝史; 加藤有行; 高田雅介; 赤羽正志; 安井寛治20092009, vol.109, no.256
タングステンメッシュにより生成した高密度水素ラジカルアニールによるZnO:Al膜の低抵抗化大島穣; 田原将巳; モハマド ハニフ; 片桐裕則; 新保和夫; 黒木雄一郎; 高田雅介; 安井寛治20092009, vol.109, no.256
高濃度BドープSi/SiGeB多層膜の熱電特性的場彰成; 佐々木公洋20092009, vol.109, no.256
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