中国机械工程学会生产工程分会知识服务平台

期刊


ISSN0913-5685
刊名電子情報通信学会技術研究報告
参考译名电子信息通信学会技术研究报告:可靠性
收藏年代2000~2023



全部

2000 2001 2002 2003 2004 2005
2006 2007 2008 2009 2010 2011
2012 2013 2014 2015 2016 2017
2018 2019 2020 2021 2022 2023

2009, vol.109, no.100 2009, vol.109, no.107 2009, vol.109, no.109 2009, vol.109, no.110 2009, vol.109, no.111 2009, vol.109, no.113
2009, vol.109, no.124 2009, vol.109, no.128 2009, vol.109, no.133 2009, vol.109, no.134 2009, vol.109, no.135 2009, vol.109, no.136
2009, vol.109, no.138 2009, vol.109, no.14 2009, vol.109, no.140 2009, vol.109, no.141 2009, vol.109, no.143 2009, vol.109, no.15
2009, vol.109, no.152 2009, vol.109, no.158 2009, vol.109, no.159 2009, vol.109, no.161 2009, vol.109, no.166 2009, vol.109, no.167
2009, vol.109, no.17 2009, vol.109, no.171 2009, vol.109, no.173 2009, vol.109, no.174 2009, vol.109, no.175 2009, vol.109, no.176
2009, vol.109, no.180 2009, vol.109, no.187 2009, vol.109, no.19 2009, vol.109, no.199 2009, vol.109, no.2 2009, vol.109, no.200
2009, vol.109, no.201 2009, vol.109, no.203 2009, vol.109, no.207 2009, vol.109, no.209 2009, vol.109, no.210 2009, vol.109, no.212
2009, vol.109, no.213 2009, vol.109, no.214 2009, vol.109, no.224 2009, vol.109, no.232 2009, vol.109, no.236 2009, vol.109, no.239
2009, vol.109, no.24 2009, vol.109, no.240 2009, vol.109, no.242 2009, vol.109, no.244 2009, vol.109, no.245 2009, vol.109, no.25
2009, vol.109, no.253 2009, vol.109, no.256 2009, vol.109, no.257 2009, vol.109, no.260 2009, vol.109, no.261 2009, vol.109, no.263
2009, vol.109, no.264 2009, vol.109, no.269 2009, vol.109, no.27 2009, vol.109, no.271 2009, vol.109, no.278 2009, vol.109, no.28
2009, vol.109, no.284 2009, vol.109, no.286 2009, vol.109, no.287 2009, vol.109, no.289 2009, vol.109, no.29 2009, vol.109, no.290
2009, vol.109, no.291 2009, vol.109, no.294 2009, vol.109, no.297 2009, vol.109, no.30 2009, vol.109, no.300 2009, vol.109, no.309
2009, vol.109, no.314 2009, vol.109, no.315 2009, vol.109, no.317 2009, vol.109, no.318 2009, vol.109, no.32 2009, vol.109, no.321
2009, vol.109, no.325 2009, vol.109, no.329 2009, vol.109, no.331 2009, vol.109, no.336 2009, vol.109, no.337 2009, vol.109, no.338
2009, vol.109, no.34 2009, vol.109, no.342 2009, vol.109, no.345 2009, vol.109, no.346 2009, vol.109, no.347 2009, vol.109, no.352
2009, vol.109, no.353 2009, vol.109, no.354 2009, vol.109, no.357 2009, vol.109, no.358 2009, vol.109, no.361 2009, vol.109, no.364
2009, vol.109, no.366 2009, vol.109, no.374 2009, vol.109, no.385 2009, vol.109, no.388 2009, vol.109, no.389 2009, vol.109, no.393
2009, vol.109, no.396 2009, vol.109, no.402 2009, vol.109, no.403 2009, vol.109, no.405 2009, vol.109, no.408 2009, vol.109, no.410
2009, vol.109, no.412 2009, vol.109, no.413 2009, vol.109, no.414 2009, vol.109, no.419 2009, vol.109, no.42 2009, vol.109, no.420
2009, vol.109, no.423 2009, vol.109, no.425 2009, vol.109, no.429 2009, vol.109, no.431 2009, vol.109, no.434 2009, vol.109, no.444
2009, vol.109, no.445 2009, vol.109, no.447 2009, vol.109, no.45 2009, vol.109, no.452 2009, vol.109, no.457 2009, vol.109, no.458
2009, vol.109, no.459 2009, vol.109, no.462 2009, vol.109, no.467 2009, vol.109, no.471 2009, vol.109, no.472 2009, vol.109, no.49
2009, vol.109, no.55 2009, vol.109, no.58 2009, vol.109, no.6 2009, vol.109, no.62 2009, vol.109, no.66 2009, vol.109, no.67
2009, vol.109, no.68 2009, vol.109, no.7 2009, vol.109, no.78 2009, vol.109, no.8 2009, vol.109, no.83 2009, vol.109, no.84
2009, vol.109, no.87 2009, vol.109, no.89 2009, vol.109, no.90 2009, vol.109, no.92 2009, vol.109, no.93 2009, vol.109, no.94
2009, vol.109, no.98

题名作者出版年年卷期
マイクロ波焼成によるZnS系無機EL蛍光体の発光特性の改善小林祐輔; 田口信義; 須崎昌己; 堀田昌宏; 浦岡行治20092009, vol.109, no.321
4H-SiC MOS界面へのリンの導入による界面準位密度の低減岡本大; 矢野裕司; 平田憲司; 畑山智亮; 冬木隆20092009, vol.109, no.321
電子線照射によるAl-doped 6H-SiCエピ膜中のアクセプタ密度変化野尻琢慎; 柳澤英樹; 明神善子; 松浦秀治; 大島武20092009, vol.109, no.321
200keV電子線照射によるSiCエピ膜中の耐放射線性に関する研究-ドープ量依存性柳澤英樹; 西野公三; 野尻琢慎; 松浦秀治; 大島武20092009, vol.109, no.321
電子線照射によって生じるC変位によるAl-doped 4H-SiCエピ膜中のアクセプタ密度減少について西野公三; 柳澤英樹; 野尻琢慎; 松浦秀治; 大島武20092009, vol.109, no.321
薄膜トランジスタをもちいたポテンシオスタットによる電気化学測定分銅衡介; 飯室恵紀; 瀬津光司; 佐川祐樹; 木村睦20092009, vol.109, no.321
Poly-Si TFTにおけるゲート酸化膜へのホットホール注入と捕獲/放出特性の評価鎌倉良成; 日昔崇; 辻博史; 谷口研二20092009, vol.109, no.321
エタノールクラスターイオンビームを用いたシリコン基板の微細加工向井寛; 龍頭啓充; 竹内光明; 高岡義寛20092009, vol.109, no.321
High-k/メタルゲートMOSFETのしきい値電圧の温度依存性西田征男; 永久克己; 清水昭博; 山下朋弘; 尾田秀一; 井上靖朗; 芝原健太郎20092009, vol.109, no.321
X線検出素子(Silicon Drift Detector)の簡素化-シミュレーションによる評価北野谷征吾; 三宅貴之; 谷口征大; 松浦秀治20092009, vol.109, no.321
12